用于磁控溅射膜的一种剥离技术
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A Liftoff Technique for Magnetron Sputtering Film
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    摘要:

    为了解决磁控溅射膜的剥离问题,该文研制了一种新型的双层胶剥离技术。通过调整双层光刻胶的坚膜时间、坚膜温度和显影时间,制备出好的光刻胶倒梯形形貌,得到磁控溅射膜较好的剥离效果。为薄膜体声波谐振器(FBAR)的研制提供了有意义的指导。

    Abstract:

    In order to solve the problem of the liftoff of magnetron sputtering film, a bilayer liftoff process has been researched in this paper. The good liftoff effect of magnetron sputtering film has been obtained through changing baking time, baking temperature and development time of the bilayer photoresist and the fine photoresist pattern with Ttop has been fabricated. The results provide a helpful process guideline for fabricating film bulk acoustic resonator (FBAR) devices.

    参考文献
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    引证文献
引用本文

刘娅,杨正兵,蒋欣,李磊,何西良,徐阳.用于磁控溅射膜的一种剥离技术[J].压电与声光,2018,40(3):331-333. LIU Ya, YANG Zhengbing, JIANG Xin, LI Lei, HE Xiliang, XU Yang. A Liftoff Technique for Magnetron Sputtering Film[J]. PIEZOELECTRICS AND ACOUSTOOPTICS

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  • 在线发布日期: 2018-07-02
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