单层SiO2和ZrO2薄膜激光辐照损伤的对比
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国家“八六三”基金资助项目(2008AA8040508); 中央高校基本科研业务费专项基金资助项目(ZYGX2009X007)

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Contrast Study of Laser-induced Damage of Monolayer SiO2 and ZrO2 Films
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    分别采用物理气相沉积和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了4块光学厚度相近的Si O2和ZrO2单层膜。分别采用椭偏仪、透射式光热透镜和原子力显微镜对两类薄膜的孔隙率、热吸收和微观表面形貌进行了表征;利用Nd∶YAG激光器测试了样品的激光损伤阈值(LIDT;1 064 nm/8.1 ns),并用光学显微镜观察了两类薄膜的损伤形貌。结果表明,化学膜的孔隙率和表面粗糙度均大于相应的物理膜;对同一类薄膜而言,Si O2化学膜的孔隙率和表面粗糙度都比ZrO2化学膜大,物理膜则相反。化学膜有更小的热吸收,其损伤阈值普遍比物理膜高出1倍,其损伤形貌多为热熔型,而物理膜多为应力型。

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引用本文

章春来,郭袁俊,吕海兵,袁晓东,蒋晓东,祖小涛.单层SiO2和ZrO2薄膜激光辐照损伤的对比[J].压电与声光,2011,33(1). ZHANG Chunlai, GUO Yuanjua, LV Haibing, YUAN Xiaodong, JIANG Xiaodong, ZU Xiaotao. Contrast Study of Laser-induced Damage of Monolayer SiO2 and ZrO2 Films[J]. PIEZOELECTRICS AND ACOUSTOOPTICS

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